- Siliciumgehalte:Het siliciumgehalte van silicium 2202-metaal moet doorgaans meer dan 99,5% bereiken om aan de zuiverheidseisen in hoogwaardige toepassingen te voldoen. Hoe hoger het siliciumgehalte, hoe beter de prestaties in elektronica en chemische toepassingen.
- Ijzergehalte:IJzer is een van de belangrijkste onzuiverheden in siliciummetaal. Voor siliciummetaal 2202 is een ijzergehalte van niet meer dan 0,2% vereist. Het lage ijzergehalte is vooral belangrijk om de prestaties op het gebied van elektronica te garanderen.
- Aluminium inhoud:Aluminium is een andere veel voorkomende onzuiverheid, en het metaal silicium 2202 heeft een laag aluminiumgehalte, gewoonlijk niet meer dan 0,2%. Dit garandeert de hoge elektrische geleidbaarheid en chemische stabiliteit van het materiaal.
- Calciumgehalte:De aanwezigheid van calcium heeft invloed op de mechanische eigenschappen van siliciummetaal. Siliciummetaal 2202 stelt zeer strenge eisen aan het calciumgehalte, doorgaans niet meer dan 0,02%.
- Deeltjesgrootteverdeling:Silicium 2202-metaal wordt meestal geleverd in deeltjes- of poedervorm, de vereisten voor de deeltjesgrootte zijn meestal uniforme deeltjes van 10 mm tot 100 mm, of aangepast aan de behoeften van de gebruiker. De deeltjesgrootteverdeling heeft een direct effect op de reactie-efficiëntie van materialen in metallurgische of chemische reacties.
- Dikte:De dichtheid van metallisch silicium is een belangrijke fysieke eigenschap die de verwerking en het gebruik ervan beïnvloedt. Metallisch silicium met hoge dichtheid vertoont gewoonlijk een betere fysieke stabiliteit.
- Fosforgehalte:Fosfor is een schadelijke onzuiverheid die de chemische stabiliteit en mechanische eigenschappen van siliciummetaal vermindert. Het fosforgehalte in silicium-2202-metaal bedraagt gewoonlijk niet meer dan 0,004%.
- Zwavelgehalte:Zwavel is een belangrijk element dat de brosheid van het materiaal beïnvloedt, en het gehalte ervan moet onder de 0,02% worden gehouden.
- Koolstofgehalte:De aanwezigheid van koolstofonzuiverheden kan de elektrische eigenschappen van metallisch silicium negatief beïnvloeden, daarom is het noodzakelijk het gehalte ervan te beperken tot minder dan 0,02%.
- Chloorgehalte:Het chloorgehalte moet strikt worden gecontroleerd, vooral als het wordt gebruikt voor de productie van silicium van elektronische kwaliteit.
- Spectraalanalyse (ICP-OES, ICP-MS) :vaak gebruikt om het gehalte aan sporenelementen en onzuiverheden in silicium, zoals ijzer, aluminium, calcium, enz., met hoge precisie en hoge gevoeligheid te detecteren.
- Chemische analyse:Traditionele natchemische analysemethoden kunnen worden gebruikt om de zuiverheid van silicium en het gehalte aan onzuiverheidselementen te detecteren.
- Röntgenfluorescentiespectroscopie (XRF):gebruikt voor snelle analyse van de belangrijkste componenten en onzuiverheden van metallisch silicium, vooral geschikt voor snelle detectie op de productielocatie.
- Deeltjesgrootte-analysator:gebruikt om de deeltjesgrootteverdeling van deeltjes te bepalen om ervoor te zorgen dat deze voldoet aan de deeltjesgrootte-eisen van de gebruiker.
Bent u geïnteresseerd, neem dan hieronder contact met ons op.